氮化物半導(dǎo)體二極管(氮化鎵和氮化鋁)在紫外發(fā)光二極管(LED)中具有廣闊的應(yīng)用前景。目前,市場(chǎng)上大部分紫外LED都是基于藍(lán)寶石襯底制備的,然而由于藍(lán)寶石襯底導(dǎo)熱性差,導(dǎo)致了紫外LED在使用過程存在嚴(yán)重散熱問題。特別是對(duì)于芯片面積大、驅(qū)動(dòng)電流大的高亮度LED器件,散熱問題會(huì)造成器件性能的嚴(yán)重下降。目前,盡管研究者采取了一些技術(shù)來試圖解決散熱問題,但都存在一些問題。比如,研究者通過倒裝芯片封裝工藝將芯片產(chǎn)生的熱量通過焊料散到散熱器,但是由于焊料與散熱器之間的導(dǎo)熱性差,其散熱性能的改善通常很有限?;蛘咄ㄟ^激光薄膜轉(zhuǎn)移技術(shù),將制備于藍(lán)寶石襯底的器件轉(zhuǎn)移至熱擴(kuò)散系數(shù)高的襯底上。這個(gè)方法可以有效地解決器件的散熱問題,但是其轉(zhuǎn)移技術(shù)的復(fù)雜性給制備工藝帶來了巨大的成本。此外,也可以將氮化物半導(dǎo)體直接生長(zhǎng)在高散熱系數(shù)的氮化鎵和碳化硅襯底上,然而氮化鎵和碳化硅襯底的高成本顯著增加了生產(chǎn)成本,限制了它們的廣泛應(yīng)用。因此,紫外光電二極管的散熱仍然是個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。
近日,北京大學(xué)劉忠范院士團(tuán)隊(duì)開發(fā)了一種垂直石墨烯納米片作為散熱器的藍(lán)寶石襯底氮化鋁紫外LED器件,有效提升了紫外LED的散熱性能。相關(guān)成果發(fā)表在Advanced Materials上,文章題目為“Enhancement of Heat Dissipation in Ultraviolet Light-Emitting Diodes by a Vertically Oriented Graphene Nanowall Buffer Layer”。
圖1?垂直石墨烯(VG)納米片作為緩沖層增強(qiáng)藍(lán)寶石襯底上的氮化鋁薄膜的熱擴(kuò)散
(a) AlN-VG-Al2O3異質(zhì)結(jié)構(gòu)散熱增強(qiáng)示意圖;
(b) VG納米片的掃描電鏡圖;
(c) VG納米片的拉曼光譜;
(d) VG納米片的原子力掃描電鏡圖;
(e) VG納米片的代表性截面透射電鏡圖像。
圖2 VG納米片緩沖層對(duì)生長(zhǎng)在氧化鋁襯底上的氮化鋁薄膜成核和質(zhì)量的影響
(a-c) 初始成核階段,在裸藍(lán)寶石襯底(a)、低密度VG藍(lán)寶石襯底和高密度VG藍(lán)寶石襯底生長(zhǎng)的氮化鋁SEM圖;
(d-f) a-c圖相對(duì)應(yīng)的示意圖;
(g) 氮化鋁成核數(shù)量統(tǒng)計(jì);
(h) 低密度VG納米片襯底生長(zhǎng)的氮化鋁薄膜的SEM圖;
(i) 低密度VG納米片襯底生長(zhǎng)的氮化鋁薄膜的AFM圖。
圖3:有無VG納米片的氧化鋁基底上的氮化鋁薄膜的散熱性能
(a, c) 有無VG納米片的氮化鋁-藍(lán)寶石結(jié)構(gòu)示意圖;
(b, d) 有無VG納米片的氮化鋁-藍(lán)寶石器件的模擬二維熱分布圖;
(e) 紅外相機(jī)測(cè)試的有無VG納米片的氮化鋁-藍(lán)寶石器件的表面溫度與時(shí)間的關(guān)系曲線;
(f) 有無VG納米片的氮化鋁-藍(lán)寶石器件的加熱速率和冷卻速率隨時(shí)間的變化曲線。
圖4 AlN-VG-Al2O3異質(zhì)結(jié)構(gòu)的拉曼光譜分析
(a) AlN-VG-Al2O3的拉曼光譜;
(b) 氮化鋁在藍(lán)寶石、垂直石墨烯、橫向石墨烯和塊體氮化鋁上的拉曼位移;
(c) 在不同緩沖層襯底上的氮化鋁薄膜和氮化鋁塊體的雙軸應(yīng)力。
圖5 VG/藍(lán)寶石襯底在紫外LED中的應(yīng)用
(a, b) 有無VG的紫外LED器件的EL光譜;
(c) 有無VG的紫外LED器件的I-V曲線;
(d) 有無VG的紫外LED器件的光輸出功率與注入電流的關(guān)系。
研究者開發(fā)了一種垂直石墨烯散熱結(jié)構(gòu)有效提升了紫外LED器件的散熱性能。實(shí)驗(yàn)和理論分析表明,垂直石墨烯緩沖層可以作為一種良好的散熱增強(qiáng)材料,為解決LED應(yīng)用中的散熱問題提供了一種新的策略。
文獻(xiàn)鏈接:Enhancement of Heat Dissipation in Ultraviolet Light-Emitting Diodes by a Vertically Oriented Graphene Nanowall Buffer Layer, Advanced Materials, 2019, DOI: 10.1002/adma.201901624.
本文來自材料牛,本文觀點(diǎn)不代表利特納米立場(chǎng),轉(zhuǎn)載請(qǐng)聯(lián)系原作者。