北京大學劉忠范課題組與彭海琳教授課題組合作–含銅碳原料用于生長超潔凈石墨烯
化學氣相沉積（CVD）可以大規(guī)模生長高質(zhì)量的石墨烯薄膜，并在石墨烯的工業(yè)生產(chǎn)中顯示出可觀的潛力。但是，CVD生長的石墨烯薄膜含有表面污染物，這將阻礙其潛在的應(yīng)用，例如，在電氣和光電設(shè)備以及基于石墨烯膜的應(yīng)用中。為了解決這個問題，我們展示了一種改良的氣相反應(yīng)，利用含金屬的分子醋酸銅（II），銅(OAc)2作為碳源，實現(xiàn)了無污染石墨烯膜即超凈石墨烯的大規(guī)模生長。在高溫CVD期間，含Cu的碳源顯著增加了…