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中科院城市環(huán)境所二維納米復(fù)合中空纖維超濾膜取得新進展

膜分離技術(shù)具有操作簡單、能耗低、無二次污染等優(yōu)點,其應(yīng)用領(lǐng)域不斷拓展。目前膜分離技術(shù),尤其是超濾技術(shù),由于其靈活性、性價比高、效率高、環(huán)境友好等優(yōu)點,在污水處理、水凈化、蛋白質(zhì)濃縮、酶縮、酶提取等多個領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)。

然而傳統(tǒng)高分子聚合物中空纖維超濾膜在使用過程中由于機械性能低、水通量小、親水性差、抗污染性能等缺點限制其廣泛應(yīng)用。為減少成本,增強膜的耐污染性,延長膜的使用壽命,制備具有高親水性,高抗污染性能的中空纖維超濾膜是關(guān)鍵所在。

近年來,大多數(shù)研究熱點都集中于通過引入無機二維納米材料來改善膜的性能。典型的二維納米材料,如氧化石墨烯納米材料及其衍生物,由于其高縱橫比、低密度、良好的力學(xué)性能和提供額外水通道的能力,在膜分離領(lǐng)域顯示出廣闊的應(yīng)用前景。

基于此,中國科學(xué)院城市環(huán)境研究所膜科學(xué)與技術(shù)研究組(張凱松研究團隊)通過酸處理、氧化和超聲過程進一步功能化二硫化鉬二維納米片層材料,制備高親水性改性劑氧化二硫化鉬,并作為改性劑共混在鑄膜液中制備了PMIA/O-MoS2復(fù)合中空纖維超濾膜,在不降低截留率的情況下提高膜的滲透性能和抗污染能力。

實驗結(jié)果表明:與原始的MoS2相比,O-MoS2的Zeta電位更低,親水性更好;隨著O-MoS2的加入,提高了復(fù)合中空纖維膜表面的Zeta電位,PMIA中空纖維超濾膜表面親水性增強(接觸角從72.9°下降到55.3°),說明O-MoS2與PMIA中空纖維復(fù)合膜表面親水性、電負性的增強直接相關(guān)。

O-MoS2的添加量為0.20 wt.% O-MoS2時,復(fù)合膜的PWF最高,比原始PMIA膜高31.6 %,而截留率基本不變;同時隨著鑄膜液內(nèi)O-MoS2含量的增加,復(fù)合膜表面的耐污染性能顯著增強。

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